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      超纯水EDI设备

      发布时间:2022-06-24 14:33:03人气:0

          一、性能介绍

          EDI又称为电去离子法,是目前比较先进的生产超纯水的方法,原水先经过双极反渗透处理后,水质中杂质的去除率在99%以上,但要想制造出超纯水,除去溶解在水中的微量元素和CO2等杂质,需要通过EDI进一步净化处理,超纯水电导率≤0.1μS/cm,特点是边再生边运行,不用停机就可再生。

          超纯水EDI设备是采用一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制作技术。它巧妙的将电渗析和离子交换技术相结合,利用两端电极高压使水中带电离子移动,并配合离子交换树脂及选择性树脂膜以加速离子移动去除,从而达到水纯化的目的。

         

      图片1

      在EDI除盐过程中,离子在电场作用下通过离子交换膜被清除。同时,水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子,这些离子对离子交换树脂进行连续再生,以使离子交换树脂保持最佳状态。

          EDI装置的除盐率可以高达99%以上,如果在EDI之前使用反渗透设备对水进行初步除盐,再经 EDI除盐就可以生产出电阻率在15MΩ.cm以上的超纯水。

          EDI膜堆是由夹在两个电极之间一定对数的单元组成,在每个单元内有两类不同的室,待除盐的淡水室和收集除去杂质离子的浓水室。淡水室中用混匀的阳、阴离子交换树脂填满。这些树脂位于两个膜之间,只允许阳离子透过的阳离子交换膜和只允许阴离子透过的阴离子交换膜。

          树脂床利用加在室两端的直流电进行连续再生,电压使进水中的水分子分解成H+及OH-,水中的这些离子受相应电极的吸引,穿过阳、阴离子交换树脂向对应膜的方向迁移,当这些离子透过交换膜进入浓室后H+和OH-结合成水。这种H+和OH-的产生及迁移正是树脂得以实现连续再生的机理。

          当水中当Na+及CI-等杂质离子吸附到相应的离子交换树脂上时,这些杂质离子就会发生像普通混床内一样的离子交换反应,并相应的置换出H+及OH-。一旦在离子交换树脂内的杂质离子也加入到H+及OH-向交换膜方向迁移,这些离子将连续的穿过树脂直至透过交换膜而进入浓水室。这些杂质离子由于相邻隔室交换膜的阻挡作用而不能不能向对应电极的方向进一步的迁移,因此杂质离子得以集中到浓水室内,然后可将这种含有杂质离子的浓水排出膜堆。

          EDI设备性能特点有:

          1、 EDI无需化学再生,节省酸和碱;

          2、 EDI可以连续运行;设备出水量、出水水质稳定,运行时间长

          3、 操作管理方便;

          4、 运行费用低;

          5、无污染物质产生,废水直接排放。


          二、EDI工作原理

      图片2 

          EDI的组成是由夹在两个电极之间的一定对数的单元。在每个单元内有两类不同的隔室:进水的淡水室和收集所除去杂质离子的浓水室。淡水室中用混匀的阴、阳离子交换树脂填满,这些树脂位于两个膜之间:只允许阳离子透过的阳离子交换膜及只允许阴离子透过的阴离子交换膜。

         原水进入EDI装置中后,水中的阴阳杂质离子被树脂吸收。EDI单元两端加有电压,使进水的部分水分子分解成H+及OH-离子,这两个离子进入树脂层,置换出被树脂吸收的杂质离子,这些杂质离子在左右阴极和阳极电流的吸引下分别向左右移动,即杂质阴离子被阳极吸引向阳极移动,杂质阳离子被阴极吸引,向阴极移动,并且通过阴阳离子交换膜进入浓水室,浓水室的废水排出系统。这样就完成了树脂连续工作、连续再生的过程。


         三、EDI超纯水设备基本参数 

         1、EDI的进水参数:

         反渗透RO产水,电导率1-20μs/cm,最大允许电导率≤30μs/cm(NaCl)。

         pH值: 7.5—9

         进水硬度:<1.0ppm(以CaCO 计)(推荐0 5ppm以下)

         进水有机物:TOC<0.5ppm

         进水氧化剂:Cl2(活性)<0.03ppm,O3(臭氧)<0.02ppm

         进水重金属离子:Fe、Mn、变价性金属离子<0.01ppm

         进水硅:SiO2<0.5ppm

         进水总CO2:<3ppm

         进水颗粒度:<1μm

         2、EDI运行参数:

         温度: 15℃--35℃

         进水压力(DIN):0.15—0.4MPa

         浓水进水压力(C ) 0 10 0 3MP IN): 0.10—0.3MPa

         产水压力(DOUT):0.05—0.25MPa

         浓水出水压力(COUT): 0.02—0.2MPa


         四、应用领域:

         1、电厂化学水处理;

         2、电子、半导体、精密机械行业用的超纯水;

         3、制药工业工艺用水;

         4、食品、饮料、饮用水的制备;

         5、海水、苦咸水的淡化;

         6、精细化工、精尖学科用水;

         7、其他行业所需的高纯水制备。

       




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